加碼芯片投資！英特爾斥資 30 億美元擴建 D1X 工廠

當地時間週一，芯片巨頭英特爾宣佈擴建其位於美國俄勒岡州的 D1X 芯片研發工廠。該項目投資 30 億美元，旨在加速技術開發，幫助英特爾重新獲得芯片行業的領先地位。

英特爾重申，計劃到 2025 年擁有比競爭對手更先進的生產技術，並提前一年使其工廠與其競爭對手打平。

據英特爾高級副總裁 Sanjay Natarajan 介紹，工廠擴建面積為 27 萬平方英尺，完成後將使 D1X 工廠的規模增加 20%。

Natarajan 指出，D1X 工廠實際上是一個巨大的實驗室，此次擴建將使其更有能力同時開發多種製造技術，並將它們應用到英特爾其他工廠的大規模生產。

據福布斯新聞介紹，升級後的 D1X 工廠將帶來新的潔淨室空間 (一種特殊的晶圓和芯片處理空間，可在其環境中維持極低的空氣顆粒物含量)，並着重開發尖端 EUV 光刻技術。

從歷史上看，英特爾缺乏對 EUV 的重視，導致該公司在半導體工藝技術方面失去了一些競爭基礎，但這種情況正在迅速改變。

此前，英特爾曾宣佈計劃共投入 1000 億美元在美國俄亥俄州建造世界最大芯片工廠，並計劃未來 10 年在歐洲投入800 億歐元用於芯片研發、製造，以及先進的封裝技術。